Renishaw光学尺 精密测控利器

                                                                                          Renishaw光学尺 精密测控利器

                                      受惠AI、5G和物联网等新技术的迅速发展，半导体需求不断扩大，设备商纷纷加大投入开发新机型以应对精密先进制程的挑战；半导体制造核心设备包括光刻机双工件台、晶圆级键合设备、雷射退火先进设备和EFEM等，设计精密，无论对核心零件的规格或测控稳定性都有极严谨的要求。

                                      北京华卓精科是中国从事精密制程核心设备的领导者，开发的半导体设备和运动平台採用Renishaw多款高性能光学尺系统，例如平台以线性马达驱动，配置TONiC™系列光学尺系统，通过Ti介面输出奈米级解析度讯号；除了半导体制程应用，平台也设计用于显示面板、玻璃切割、三维成像等；其他包括晶圆级键合设备、雷射退火先进设备等整机设备，均配置Renishaw光学尺系统。

                                      TONiC™系列是一款高性能增量式光学尺系统，可因应设备基体材料选配不同特性的光学尺。与Ti讯号细分介面配套使用时，在线性和旋转应用中解析度可达1nm，而光学尺工作速度在0.1 μm解析度时可达3.6 m／s；由于安装公差宽鬆，而TONiC的动态讯号处理功能可提高讯号稳定性，电子细分误差更低于±30nm。

                                      在温度影响下，设备许多零件的长度会因热膨胀效应发生变化，光学尺也不例外；华卓精科採用的TONiC™系列光学尺多配置RGSZ20S钢带尺系列，是属于基材固定式光学尺，厚度仅0.1mm，意味光学尺固定在基体上，在温度变化时会随基体膨胀或收缩；华卓精科的运动平台多数以花岗岩为基体，这种材料具有低膨胀係数，短时间内的温度变化不会导致基体出现大幅度膨胀或收缩。

                                     华卓精科总经理孙国华指出，光学尺作为平台和设备最关键的零件，该公司经过全面评估后才选择Renishaw；他强调，Renishaw光学尺产品的多样性和稳定性能是重要因素，规格十分贴近市场需求，与该公司的产品定位十分匹配。

                                      Renishaw参加明（21）日登场的台北自动化工业展，欢迎莅临南港展览馆1馆1楼I908摊位参观