下世代EUV设备 本月进驻

                                                                                                   下世代EUV设备 本月进驻

                                        业界传出，台积电首台下世代高数值孔径极紫外光微影设备（High-NA EUV）本月将进机，持续领先三星的交机进度，有助台积电持续衝刺新世代先进制程。

                                        对于相关传闻，艾司摩尔昨（9）日不评论单一客户。台积电不回应市场传闻。

                                        业界盛传，台积电首台High-NA EUV本月将进机，预计移入台积电全球研发中心，作为研发使用，进而应对后续A14等先进制程开发需求。

                                        至于价格方面，外传台积电总裁魏哲家亲自出马议价有成，在购买新机配售旧款产品之下，整体报价估可减少近二成。

                                        据了解，高数值孔径极紫外光微影设备报价逾4亿欧元，因光镜头镜片无法分拆入厂，高度比一间会议室还高、长度也远超前一代设备，因规格特殊且精密，恐须机场或港口联通的高速公路交管或特定路线于深夜运送入厂，以避免交通不顺。

                                        据统计，台积电目前是全球最大极紫外光微影系统设备持有者，估计占全球EUV晶圆设备产出65%，也是率先将EUV设备导入7奈米制程的厂商。

                                        艾司摩尔已获得所有极紫外光微影（EUV）设备客户下单下世代产品。ASML High NA EUV产品管理副总裁Greet Storms日前受访提到，“ASML持续推进新的技术，并获得每个EUV客户在研发阶段青睐，这些也都是我们High-NA客户，也都有下单给我们，2026年希望是往量产方向推进”，不过仍看客户制程成本等总体考量。

                                        艾司摩尔先前曾证实，今年底前将向台积电交付最新的High-NA EUV。艾司摩尔强调，下世代极紫外光微影设备已于去年底开始陆续出货，产能预计每小时可曝光超过185片晶圆，将支援2奈米以下逻辑晶片及具有相似电晶体密度的记忆体晶片量产。